設備特色 |
6”Wafer ==> 測試系統 ==> 分類 |
設備外型尺寸 |
LxWxH:2030mm x 1150mm x 2000mm |
適用材料尺寸 |
Die:30~220mil |
供料Wafer平台 |
6 inch DTF 2-6-1 |
Wafer自動角度修正 |
θ: +/- 3° |
測試系統 |
1道測試機構 (4點夾測) |
分選盒 |
1~7 分選盒 (Bin1~Bin7) |
影像辨識系統 |
Wafer取料-視覺系統 (500萬畫素) |
運轉速度(UPH) |
≧15K/Hr (視材料大小而定) |